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氬氣真空等離子清洗機的原理，等離子處理為什么...
氬氣是一種工業上面常用的氣體，不僅用于清洗，也用于電焊或者金屬切割，在等離子清洗中主要被應用于基材表面的物理清洗及表面粗化，最大的特點就是在表面清洗中不會造成精密電子器件的表面氧化。正因如此，氬等離子清洗機在半導體、微電子、晶圓制造等行業被廣泛應用。
氬氣在真空等離子清洗機中被電離所產生的等離子體呈暗紅色。所以大家平時所見的真空等離子清洗機，機器啟動時，真空腔室里面都是顯示的暗紅色，表示真空等離子正在產生反應。
在相同的放電環境下，氫氣和氮氣所產生的等離子體顏色都是呈紅色，但氬等離子體的亮度會低于氮氣且高于氫氣，還是比較好區分的。
在晶圓、玻璃等產品表面顆粒的清除過程中，通常會采用等離子體對材料表面的顆粒進行轟擊，加以實現對顆粒的分散和松動處理，然后再進行離心清洗等處理工藝，會有著顯著的效果。在半導體封裝應用中尤為突出，在經過打線工藝后為防止導線氧化，需采用氬等離子體或氬氫等離子對產品表面進行等離子清洗，實現更好的產品處理效果。
等離子清洗機的表面粗化處理也稱為表面刻蝕處理，其主要目的是提升材料的表面粗糙度，進而增強材料的粘接、印刷和焊接等性能。其他活性氣體經處理后也可提升產品表面張力，但氬離子化產生的顆粒要更重，在電場的作用下氬離子的動能較高于其他活性氣體，所以其粗化效果更號。氬氣在無機物表面粗化的過程中應用最為廣泛，如玻璃基材的表面處理、金屬基材的表面處理等。
大氣壓等離子有三種效果模式可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合，主要面向非金屬材料并且要求較高的處理效果時采用。 二是選用 氬氣/氮氣 組合，主要面向待處理產品有不能被處理的金屬區域，因氧氣的強氧化作用，替換為此方案中的氮氣后，該問題可以加以控制。三是只采用氬氣的情況，只采用氬氣也可以實現表面改性，但是效果相對較低。此種情況較特殊，是少數工業客戶需要有限度的同時均勻的表面改性時采用的方案。
大氣壓式等離子，也是低溫等離子，不會對材料表面造成損傷。無電弧，無需真空腔體，也無需有害氣體吸出系統，長時間使用并不會對操作人員造成身體損害。
等離子應用在清洗機行業，主要分為兩大類，一類是常壓的，或者做大氣等離子清洗機，就是在平時正常環境下面直接使用的。另外一種是真空等離子清洗機，這個是需要在真空環境下面使用的。常壓的等離子清洗機，主要是用來處理一些平面立體的物體，比如手機玻璃板，而真空等離子清洗機則是用來處理一些異形件，或者對處理要求比較高的物體。比如汽車連接件，這些物體直接用常壓等離子清洗機，直接噴射處理肯定不到位，這個時候就需要用到真空等離子清洗機
等離子處理為什么需要真空環境?
在真空環境產生等離子體的原因很多,主要有有兩個原因:
引入真空室的氣體在壓力環境下不會電離,在充入氣體電離產生等離子體之前必須達到真空環境。另外，真空環境允許我們控制真空室中氣體種類，控制真空室中氣體種類對等離子處理體過程的可重復性是至關重要的。
要進行等離子處理產品,首先我們產生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個電極板之間產生的射頻(RF) 激活，這些氣體中被激活的離子加速，開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發出紫外光，從而產生等離子體輝光。溫度控制系統常用于控制刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統已經預編程并集成到等離子體系統的軟件中間。設置保存每個等離子處理的程序能輕松復制處理過程。
